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四氯化錫二水合物xrd檢測

2025-03-15 關(guān)鍵詞:四氯化錫二水合物xrd項(xiàng)目報(bào)價(jià),四氯化錫二水合物xrd測試機(jī)構(gòu),四氯化錫二水合物xrd測試范圍 相關(guān):
四氯化錫二水合物xrd檢測

四氯化錫二水合物xrd檢測摘要:四氯化錫二水合物(SnCl?·2H?O)的X射線衍射(XRD)檢測是確定其晶體結(jié)構(gòu),、物相組成及純度的重要手段,。本文重點(diǎn)闡述樣品制備規(guī)范,、衍射參數(shù)優(yōu)化,、特征峰解析等核心環(huán)節(jié),涵蓋晶胞參數(shù)計(jì)算,、結(jié)晶度評估及雜質(zhì)相識別等關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo),,適用于化工原料、催化劑前驅(qū)體等領(lǐng)域的質(zhì)量控制與研發(fā)驗(yàn)證,。

參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測項(xiàng)目

物相分析:掃描范圍10°-80°(2θ),步長0.02°,,速度2°/min

晶胞參數(shù)計(jì)算:基于Rietveld精修法,,誤差范圍±0.005 ?

結(jié)晶度評估:半峰寬(FWHM)測量精度±0.01°

晶粒尺寸測定:Scherrer公式計(jì)算,粒徑范圍10-200 nm

雜質(zhì)相識別:檢出限≤0.5 wt%,,匹配ICDD PDF-2數(shù)據(jù)庫

檢測范圍

無機(jī)化工原料:高純度SnCl?·2H?O晶體粉末

催化劑前驅(qū)體:負(fù)載型金屬氧化物復(fù)合材料

電鍍添加劑:含錫離子配位化合物溶液干燥產(chǎn)物

醫(yī)藥中間體:有機(jī)錫合成反應(yīng)副產(chǎn)物

電子材料:半導(dǎo)體薄膜沉積用前驅(qū)體粉末

檢測方法

ASTM E915-16:殘余應(yīng)力測試標(biāo)準(zhǔn)(適用于晶格畸變分析)

ISO 20203:2005:鋁生產(chǎn)用煅燒材料XRD定量分析通則

GB/T 23413-2009:納米材料晶粒尺寸測定方法

GB/T 30904-2014:無機(jī)化工產(chǎn)品晶型結(jié)構(gòu)分析通則

JIS K 0131-1996:X射線衍射通用試驗(yàn)方法

檢測設(shè)備

Rigaku SmartLab 9kW:配備Hybrid Pixel陣列探測器,,角度重現(xiàn)性±0.0001°

Bruker D8 ADVANCE DaVinci:LynxEye XE-T超能探測器,最小步長0.0001°

PANalytical Empyrean:PIXcel3D 2x2矩陣探測器,,高溫附件支持-196~1600℃測試

Shimadzu XRD-7000:石墨單色器Cu靶光源,,強(qiáng)度穩(wěn)定性≤0.05%/h

Thermo Scientific ARL EQUINOX 100:微區(qū)衍射模式,最小光斑尺寸50μm

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱:中析研究所】

報(bào)告:可出具第三方檢測報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測周期:7~15工作日,,可加急,。

資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測試:嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測,。

非標(biāo)測試:支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后:報(bào)告終身可查,工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)

中析四氯化錫二水合物xrd檢測 - 由于篇幅有限,,僅展示部分項(xiàng)目,,如需咨詢詳細(xì)檢測項(xiàng)目,,請咨詢在線工程師

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