參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.粒度分布：D10/D50/D90值測(cè)定（0.1-500μm）,，跨度值≤1.5

2.化學(xué)成分：主元素含量≥99.5%,，雜質(zhì)元素（Fe≤0.05%、S≤0.02%）

3.振實(shí)密度：測(cè)試范圍1-20g/cm（GB/T5162）

4.比表面積：BET法測(cè)定（0.01-2000m/g）

5.電化學(xué)性能：首次放電容量≥200mAh/g（0.1C倍率）

檢測(cè)范圍

1.金屬電解粉末：銅粉（Cu≥99.95%）,、鎳粉（Ni≥99.8%）

2.合金電解粉末：鈷鉻鉬合金（CoCrMo）,、鈦鋁合金（Ti6Al4V）

3.氧化物電解粉末：氧化亞鈷（CoO）、二氧化錳（MnO?）

4.復(fù)合電解粉末：銅-石墨復(fù)合材料（C含量5-15wt%）

5.納米級(jí)電解粉末：納米銀粉（粒徑50-100nm）

檢測(cè)方法

1.ASTMB822-20：金屬粉末粒度激光衍射法

2.ISO4497:2020：金屬粉末氫損測(cè)定法

3.GB/T17432-2012：有色金屬粉末X射線熒光光譜法

4.ISO9277:2010：比表面積BET四站式測(cè)試法

5.GB/T5162-2021：金屬粉末振實(shí)密度測(cè)定法

6.ASTME1941-10：火花放電原子發(fā)射光譜法

檢測(cè)設(shè)備

1.MalvernMastersizer3000：激光粒度分析儀（0.01-3500μm）

2.MicromeriticsASAP2460：全自動(dòng)比表面及孔隙度分析儀

3.ShimadzuEDX-7000：X射線熒光光譜儀（Na-U元素分析）

4.QuantachromeAutotap：智能振實(shí)密度儀（100-600次/min）

5.LANSETESTWK6500B：四探針電阻率測(cè)試儀（10μΩcm-100MΩcm）

6.MettlerToledoTGA/DSC3+：同步熱分析儀（室溫-1600℃）

7.PrincetonVersaSTAT4：電化學(xué)工作站（10V/2A）

8.HitachiSU5000：場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（1nm分辨率）

9.Agilent7900ICP-MS：電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ppt級(jí)檢出限）

10.RIGAKUSmartLabSE：X射線衍射儀（5-90掃描角）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期：7~15工作日,，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè),。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查,，工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)