參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

化學(xué)成分分析：測(cè)定Na/Nb/O摩爾比（目標(biāo)值1:1:3 ±0.05）,，雜質(zhì)元素（Fe、K,、Si等）含量控制＜100ppm

晶體結(jié)構(gòu)表征：XRD檢測(cè)晶胞參數(shù)（a=5.521?,，c=15.499?），半峰寬（FWHM）≤0.15°

熱穩(wěn)定性測(cè)試：TGA/DSC聯(lián)用測(cè)定分解溫度（≥800℃）,，相變焓（ΔH）偏差＜5%

粒度分布檢測(cè)：激光衍射法測(cè)定D50（0.5-5μm范圍）,，Span值≤1.2

電學(xué)性能評(píng)估：介電常數(shù)（εr≥200@1MHz），損耗角正切（tanδ≤0.02）

檢測(cè)范圍

電子陶瓷材料：壓電陶瓷基體,、多層電容器介質(zhì)層

光學(xué)鍍膜材料：高折射率薄膜前驅(qū)體,、非線性光學(xué)晶體

催化劑載體：納米鈮酸鈉復(fù)合催化材料

固態(tài)電解質(zhì)材料：鈉離子電池正極涂層

高溫涂層材料：航空發(fā)動(dòng)機(jī)耐腐蝕防護(hù)層

檢測(cè)方法

X射線熒光光譜法（ISO 14707:2021）：測(cè)定主量元素含量,，檢測(cè)限達(dá)0.01wt%

粉末X射線衍射法（ASTM E915-19）：全譜擬合計(jì)算晶格畸變率

同步熱分析法（ISO 11358-1:2022）：10℃/min升溫程序下的質(zhì)量變化監(jiān)測(cè)

激光粒度分析法（ISO 13320:2020）：干濕法雙重驗(yàn)證粒徑分布

阻抗分析法（IEC 62631-3-1:2016）：10mHz-10MHz頻段介電譜測(cè)量

檢測(cè)設(shè)備

X射線熒光光譜儀：Rigaku ZSX Primus III，配備Rh靶管（4kW）,，可檢測(cè)B-U元素

多晶X射線衍射儀：Bruker D8 Advance,，CuKα輻射（λ=1.5406?），2θ范圍5°-120°

同步熱分析儀：Netzsch STA 449 F3,，溫度精度±0.1℃,，TG分辨率0.1μg

激光粒度分析儀：Malvern Mastersizer 3000，測(cè)量范圍0.01-3500μm

精密阻抗分析儀：Agilent 4294A,，頻率分辨率1mHz,，基本精度±0.08%

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

CNAS認(rèn)可實(shí)驗(yàn)室（編號(hào)L1234）：通過(guò)ISO/IEC 17025體系認(rèn)證，檢測(cè)數(shù)據(jù)國(guó)際互認(rèn)

標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)溯源體系：使用NIST SRM 674b系列標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進(jìn)行設(shè)備校準(zhǔn)

多方法聯(lián)合驗(yàn)證：EDS與XPS聯(lián)用確保雜質(zhì)元素檢測(cè)準(zhǔn)確性

高溫原位測(cè)試能力：配備紅外加熱模塊（最高1600℃）實(shí)現(xiàn)真實(shí)工況模擬

數(shù)據(jù)完整性保障：LIMS系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)檢測(cè)全流程電子化追溯

中析儀器 資質(zhì)