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電拋光檢測(cè)

2025-04-03 關(guān)鍵詞:電拋光測(cè)試周期,電拋光測(cè)試方法,電拋光測(cè)試案例 相關(guān):
電拋光檢測(cè)

電拋光檢測(cè)摘要:電拋光檢測(cè)是評(píng)估金屬表面處理質(zhì)量的關(guān)鍵步驟,,重點(diǎn)針對(duì)表面粗糙度,、微觀形貌、耐腐蝕性及成分均勻性等指標(biāo)進(jìn)行量化分析。核心檢測(cè)參數(shù)包括Ra值(0.05-0.8μm),、鈍化膜厚度(2-50nm),、光澤度(60-120GU)及元素偏析率(≤5%),,適用于醫(yī)療器械,、半導(dǎo)體元件等高精度工業(yè)領(lǐng)域的質(zhì)量控制。

參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

1. 表面粗糙度:采用接觸式輪廓儀測(cè)量Ra值(0.05-0.8μm)與Rz值(0.4-6.3μm),,符合ISO 4287規(guī)定的取樣長(zhǎng)度0.8mm

2. 鈍化膜厚度:通過(guò)X射線熒光光譜儀測(cè)定Cr/Fe比(1.5-3.0),膜厚測(cè)量范圍2-50nm

3. 微觀缺陷密度:金相顯微鏡下統(tǒng)計(jì)孔隙率(≤0.1%),、裂紋長(zhǎng)度(<5μm/10mm2)

4. 電化學(xué)性能:動(dòng)電位極化測(cè)試獲取自腐蝕電流密度(<1×10??A/cm2),,點(diǎn)蝕電位≥0.8V(SCE)

5. 元素分布均勻性:EDS面掃描分析Cr/Ni/Mo元素偏析率(相對(duì)偏差≤5%)

檢測(cè)范圍

1. 奧氏體不銹鋼:涵蓋316L血管支架、304食品機(jī)械構(gòu)件等醫(yī)療/食品級(jí)產(chǎn)品

2. 鈦合金制品:包括Ti-6Al-4V骨科植入物,、Gr5航空緊固件等

3. 鋁合金部件:適用于6061-T6半導(dǎo)體腔體,、7075航天結(jié)構(gòu)件

4. 鎳基合金組件:含Inconel 718渦輪葉片、Hastelloy C276反應(yīng)釜內(nèi)襯

5. 鈷鉻合金醫(yī)療器械:覆蓋CoCrMo人工關(guān)節(jié)、牙科修復(fù)體等三類(lèi)器械

檢測(cè)方法

ASTM B912-17:不銹鋼電解拋光層耐蝕性測(cè)試的電位掃描法

ISO 15730:2000:金屬表面電解拋光粗糙度測(cè)量的非接觸式干涉法

GB/T 31309-2020:電解拋光表面殘余應(yīng)力測(cè)試的X射線衍射法

ASTM E3-11:制備金相試樣的機(jī)械研磨-電解拋光復(fù)合工藝

GB/T 4340.3-2012:電解拋光表面顯微硬度測(cè)試的維氏硬度計(jì)法

檢測(cè)設(shè)備

Mitutoyo SJ-410表面粗糙度儀:配備金剛石探針(曲率半徑2μm),,分辨率0.8nm

Bruker D8 ADVANCE X射線衍射儀:采用CuKα輻射源(λ=0.154nm),,用于殘余應(yīng)力分析

Elcometer 456涂層測(cè)厚儀:磁感應(yīng)原理測(cè)量范圍0-2000μm,精度±1%

Zeiss Sigma 500場(chǎng)發(fā)射電鏡:搭配Oxford X-MaxN 80 EDS探測(cè)器,,點(diǎn)分辨率0.8nm

Gamry Reference 600+電化學(xué)工作站:支持10μHz-1MHz頻率范圍的阻抗譜測(cè)試

Keyence VK-X1000激光共聚焦顯微鏡:405nm激光光源實(shí)現(xiàn)0.01nm縱向分辨率

Instron 6800系列萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī):配合ASTM E8標(biāo)準(zhǔn)夾具進(jìn)行拋光層結(jié)合力測(cè)試

Thermo Scientific ARL EQUINOX 1000 XRF光譜儀:可檢測(cè)原子序數(shù)11(Na)-92(U)元素

Q-Lab Q-SUN Xe-3氙燈老化箱:模擬ISO 4892-2標(biāo)準(zhǔn)光照條件評(píng)估耐候性

Olympus DSX1000數(shù)碼顯微鏡:20-7000倍連續(xù)變倍系統(tǒng)搭配多焦點(diǎn)景深擴(kuò)展功能

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱(chēng):中析研究所】

報(bào)告:可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期:7~15工作日,可加急,。

資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試:嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試:支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后:報(bào)告終身可查,,工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)

中析電拋光檢測(cè) - 由于篇幅有限,,僅展示部分項(xiàng)目,如需咨詢(xún)?cè)敿?xì)檢測(cè)項(xiàng)目,,請(qǐng)咨詢(xún)?cè)诰€工程師

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