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黑體源檢測(cè)

2025-05-16 關(guān)鍵詞:黑體源測(cè)試周期,黑體源測(cè)試范圍,黑體源測(cè)試案例 相關(guān):
黑體源檢測(cè)

黑體源檢測(cè)摘要:檢測(cè)項(xiàng)目1.發(fā)射率測(cè)定:波長(zhǎng)范圍0.3-20μm波段積分發(fā)射率(ε≥0.85)2.溫度均勻性:工作區(qū)間300-2000K時(shí)表面溫差ΔT≤1.5%3.光譜響應(yīng)特性:2-14μm波段光譜分辨率≤4nm4.熱穩(wěn)定性測(cè)試:連續(xù)工作72小時(shí)性能波動(dòng)≤0.025.角度依賴性:入射角0-85時(shí)發(fā)射率變化量δ≤0.03檢測(cè)范圍1.航天器熱控涂層(多層隔熱組件/輻射制冷薄膜)2.工業(yè)高溫爐襯材料(碳化硅/氧化鋯基復(fù)合材料)3.電子封裝散熱基板(氮化鋁/金剛石復(fù)合基材)4.紅外偽裝涂層(多波段兼容型功能涂料)5.太陽能集熱器

參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.發(fā)射率測(cè)定:波長(zhǎng)范圍0.3-20μm波段積分發(fā)射率(ε≥0.85)
2.溫度均勻性:工作區(qū)間300-2000K時(shí)表面溫差ΔT≤1.5%
3.光譜響應(yīng)特性:2-14μm波段光譜分辨率≤4nm
4.熱穩(wěn)定性測(cè)試:連續(xù)工作72小時(shí)性能波動(dòng)≤0.02
5.角度依賴性:入射角0-85時(shí)發(fā)射率變化量δ≤0.03

檢測(cè)范圍

1.航天器熱控涂層(多層隔熱組件/輻射制冷薄膜)
2.工業(yè)高溫爐襯材料(碳化硅/氧化鋯基復(fù)合材料)
3.電子封裝散熱基板(氮化鋁/金剛石復(fù)合基材)
4.紅外偽裝涂層(多波段兼容型功能涂料)
5.太陽能集熱器吸熱膜層(選擇性吸收涂層)

檢測(cè)方法

ASTME423-17紅外光譜發(fā)射率測(cè)量規(guī)程
ISO18434-1:2008熱成像系統(tǒng)校準(zhǔn)方法
GB/T11158-2008高溫試驗(yàn)箱溫度性能測(cè)試方法
ASTME3053-17寬波段發(fā)射率計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)
GB/T7287-2008紅外輻射加熱器測(cè)量方法

檢測(cè)設(shè)備

1.FTIR光譜儀(BrukerVERTEX80v):波長(zhǎng)范圍0.3-28μm
2.黑體輻射源校準(zhǔn)裝置(Fluke4181):溫度范圍-40℃~1200℃
3.高精度測(cè)溫儀(KEITHLEY2010):分辨率0.001K
4.真空高溫測(cè)試艙(ThermcraftVTH-24):極限真空度510?Pa
5.半球反射率測(cè)量系統(tǒng)(SurfaceOpticsSOC-100):角度精度0.1
6.瞬態(tài)平面熱源儀(HotDiskTPS2500S):導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)量誤差≤3%
7.紅外熱像儀(FLIRX8580):幀頻180Hz@640512像素
8.激光閃射儀(NETZSCHLFA467):溫度范圍RT~2000℃
9.多軸運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái)(AerotechANT130):定位精度1μm
10.光譜輻射計(jì)(OL750-CLD):波長(zhǎng)精度0.05nm

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱:中析研究所】

報(bào)告:可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期:7~15工作日,,可加急,。

資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試:嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè),。

非標(biāo)測(cè)試:支持定制化試驗(yàn)方案。

售后:報(bào)告終身可查,,工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)

中析黑體源檢測(cè) - 由于篇幅有限,,僅展示部分項(xiàng)目,如需咨詢?cè)敿?xì)檢測(cè)項(xiàng)目,,請(qǐng)咨詢?cè)诰€工程師

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