參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

化學(xué)成分檢測(cè)：

• 元素定量分析：Fe,、Cr,、Ni含量（wt%，偏差±0.05%,，參照ASTM E1479）
• 雜質(zhì)檢測(cè)：S,、P含量（≤0.03wt%）
• 有機(jī)物成分：TOC值（mg/L，參照ISO 8245）

• 密度測(cè)定：g/cm3（精度±0.01）
• 顆粒尺寸分布：平均粒徑（μm,，參照ASTM B822）
• 表面形態(tài)：粗糙度（Ra≤1.6μm）

• 腐蝕速率：mm/a（參照ASTM G31）
• 產(chǎn)物成分：Fe2O3,、Cr2O3比例（wt%）
• 氧化層厚度：μm（測(cè)量精度±0.1）

• 晶相鑒定：α-Fe,、γ-Fe占比（XRD衍射角,，參照ISO 642）
• 晶粒度評(píng)級(jí)：G≥6級(jí)（參照ASTM E112）
• 結(jié)晶度：百分比（偏差±2%）

• 表面掃描：孔隙率（≤0.5%）
• 裂紋檢測(cè)：長(zhǎng)度,、寬度（μm）
• 沉積層厚度：測(cè)量范圍0-500μm

• 熱穩(wěn)定性：失重溫度（℃）
• 膨脹系數(shù)：10??/K（參照ASTM E228）
• 相變點(diǎn)：℃（精度±1）

• 極化曲線(xiàn)：腐蝕電位（mV）
• 阻抗譜：相位角（度）
• 電流密度：mA/cm2（參照ISO 17475）

• 細(xì)菌含量：CFU/mL（參照ASTM D5465）
• 生物膜厚度：μm
• 代謝產(chǎn)物：有機(jī)酸濃度（mg/L）

• 溶劑殘留：ppm（檢測(cè)限0.1）
• 添加劑分析：濃度（wt%）
• 不溶物含量：百分比（參照GB/T 511）

• 能譜測(cè)試：元素映射（精度±0.5%）
• 粘附力：N/mm2
• 涂層完整性：無(wú)缺陷區(qū)域占比

檢測(cè)范圍

1. 不銹鋼反應(yīng)設(shè)備： 反應(yīng)釜、攪拌器內(nèi)壁,，檢測(cè)重點(diǎn)為Cr/Ni元素?fù)p耗及點(diǎn)蝕產(chǎn)物成分分析

2. 碳鋼管道系統(tǒng)： 輸送管線(xiàn)及彎頭，側(cè)重鐵銹層厚度、S元素含量及應(yīng)力腐蝕評(píng)估

3. 鎳基合金換熱器： 板片及管束,，核心檢測(cè)Mo含量變化及熱疲勞裂紋

4. 鈦合金化工容器： 儲(chǔ)罐及閥門(mén)，聚焦氧化膜穩(wěn)定性及氫脆敏感性

5. 銅合金蒸餾裝置： 冷凝盤(pán)管,，重點(diǎn)檢測(cè)Cu元素遷移及微生物腐蝕產(chǎn)物

6. 高分子襯里設(shè)備： 內(nèi)襯層及密封件,，側(cè)重聚合物降解殘留及TOC測(cè)定

7. 陶瓷涂層反應(yīng)塔： 內(nèi)表面涂層，檢測(cè)Al2O3/SiO2晶體結(jié)構(gòu)及剝落風(fēng)險(xiǎn)

8. 復(fù)合材質(zhì)過(guò)濾器： 濾芯及支撐架,，核心分析碳纖維含量及界面析出物

9. 鑄鐵泵體組件： 葉輪及殼體,，重點(diǎn)檢測(cè)石墨析出及微孔分布

10. 鋁合金蒸發(fā)器： 熱交換表面，側(cè)重Al元素氧化及晶間腐蝕評(píng)估

檢測(cè)方法

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)：

• ASTM E1479-22 金屬元素光譜分析法（采用電弧激發(fā),，元素覆蓋寬）
• ISO 148-1:2022 沖擊試驗(yàn)方法（擺錘能量校準(zhǔn)差異）
• ASTM G31-21 腐蝕浸泡試驗(yàn)（溶液濃度控制標(biāo)準(zhǔn)）
• ISO 642:2020 X射線(xiàn)衍射分析（衍射角范圍擴(kuò)展）
• ASTM D5465-19 微生物生物膜檢測(cè)（培養(yǎng)時(shí)間差異）

• GB/T 223.5-2023 鋼鐵元素化學(xué)分析法（滴定法精度提升）
• GB/T 228.1-2021 金屬拉伸試驗(yàn)（應(yīng)變速率控制差異）
• GB/T 4334-2020 不銹鋼腐蝕試驗(yàn)（溶液配方調(diào)整）
• GB/T 511-2022 不溶物測(cè)定（過(guò)濾孔徑標(biāo)準(zhǔn)差異）
• GB/T 17359-2022 電子能譜分析法（能量分辨率參數(shù)差異）

檢測(cè)設(shè)備

1. X射線(xiàn)熒光光譜儀： SPJianCeROMAXx LMMS（檢測(cè)限0.001%,，精度±0.3%）

2. 掃描電子顯微鏡： ZEISS EVO-18（分辨率1nm，放大倍數(shù)10000x）

3. 電感耦合等離子體光譜儀： PERKIN ELMER OPTIMA 8300（元素范圍Li-U,，精度±0.2%）

4. 萬(wàn)能材料試驗(yàn)機(jī)： SHIMADZU AGX-50KN（載荷范圍0.01-50kN,，精度±0.5%）

5. X射線(xiàn)衍射儀： PANALYTICAL EMPYREAN（角度范圍5-160°，精度±0.01°）

6. 粒度分析儀： MALVERN MASTERSIZER 3000（測(cè)量范圍0.01-3500μm）

7. 電化學(xué)工作站： GAMRY REFERENCE 600（電位范圍±10V,，頻率0.1-1MHz）

8. 熱重分析儀： NETZSCH STA 449F3（溫度范圍RT-1650℃,，精度±0.1℃）

9. 金相顯微鏡： LEICA DM2700M（放大倍數(shù)50-1000x，內(nèi)置攝像頭）

10. 原子吸收光譜儀： THERMO SOLAAR M6（檢測(cè)限ppb級(jí),，火焰/石墨爐可選）

11. 微生物培養(yǎng)箱： MEMERT INCO108（溫度控制20-60℃,，精度±0.5℃）

12. 表面粗糙度儀： MITUTOYO SJ-410（Ra測(cè)量范圍0.01-40μm）

13. 離子色譜儀： DIONEX ICS-6000（分離柱溫度控制30-80℃）

14. 激光共聚焦顯微鏡： OLYMPUS LEXT OLS5000（Z軸分辨率0.5nm）

15. 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)： LAKESHORE VSM 8600（磁場(chǎng)強(qiáng)度0-2T，靈敏度10??emu）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱(chēng)：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期：7~15工作日,，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè),。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案。

售后：報(bào)告終身可查,，工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)